中国芯片生彩神8app产技术第一次占领世界制高点?专家表态

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原标题:专家:国产刻蚀机很棒,但造芯片全都我“配角”

近来有网络媒体称,“中微半导体自主研制的5纳米等离子体刻蚀机,性能优良,将用于全球首条5纳米芯片制程生产线”,并评论说“中国芯片生产技术终于突破欧美封锁,第一次占领世界制高点”“中国弯道超车”等等。

中微公司的刻蚀机的确水平一流,但夸大阐述其战略意义,则被相关专家反对。刻蚀全都我芯片制造多个环节之一。刻蚀机也后会对华禁售的设备,在你什儿 意义上不算“卡脖子”。

光刻机是芯片制造中用到的最金贵的机器,要达到5纳米曝光精度难比登天,ASML公司一家通吃高端光刻机;而刻蚀机没没有难,中微的竞争对手还有应用材料、泛林、东京电子等等,国外巨头体量优势明显。  

首先,外行容易混淆“光刻机”和“刻蚀机”。光刻机大慨画匠,刻蚀机是雕工。前者投影在硅片上一张精细的电路图(就像照相机让胶卷感光),后者按这张图去刻线(就像刻印章一样,腐蚀和去除不都可以 的部分)。

“中微的等离子刻蚀机这几年进步人太好不小,”科技日报记者采访的一位从事离子刻蚀的专家说,“但现在的刻蚀机精度已远超光刻机的曝光精度;芯片制程上,刻蚀精度已不再是最大的问提,更难的是保证在大面积晶圆上的刻蚀一致性。”

该专家解释说,难在怎么才能 才能 让电场能量和刻蚀氯化氢气体都均匀地分布在被刻蚀基体皮下组织上,以保证等离子中的有效基元,在晶片皮下组织的每一另一个 位置实现相同的刻蚀效果,为此都可以 综合材料学、流体力学、电磁学和真空等离子体学的知识。

该专家说:“刻蚀机更合理的形态设计和材料挑选,可保证电场的均匀分布。刻蚀氯化氢气体的馈入方式也是关键之一。据我所知,中微尹志尧博士的团队在氯化氢气体喷淋盘上下过不少的功夫。另外包括功率电源、真空系统、刻蚀温度控制等,都影响刻蚀结果。”

另外,该专家也指出,刻蚀机技术类型全都,中微和当当另一个人的技术原理后会很大区别,至于更全部的技术细节,是每个厂家的核心机密。

顺便一提:刻蚀分湿法(古代人就懂得用强酸去刻蚀金属,现代工艺用氟化氢刻蚀二氧化硅)和干法(如用真空中的氩等离子体去加工硅片)。“湿法冒出 较早,一般用在低端产品上。干法一般是能量束刻蚀,离子束、电子束、激光束等等,精度高,无污染残留,芯片制造用的全都我等离子刻蚀。”该专家称。

上述专家称赞说,尹博士以及中微的核心技术团队,基本后会从国际知名半导体设备大厂出来的,尹博士原先 就在国外获得了诸多的技术成就。中微不断提高改进,逐步在芯片刻蚀机领域保持了与国外几乎同步的技术水平。

在IC业界工作多年的电子工程师张光华告诉科技日报记者:“一两年前网上后会中微研制5纳米刻蚀机的报道。并且能在台积电应用,的确说明中微达到世界领先水平。但说中国芯片‘弯道超车’全都我夸大其词了。”

“硅片从设计到制造到封测,流程复杂性。刻蚀是制造环节的工序之一,还有造晶棒、切割晶圆、涂膜、光刻、掺杂、测试等等,都都可以 复杂性的技术。中国在大部分工序上落后。”张光华说,“因此,中微全都我给台积电原先 的制造企业提供设备,产值比台积电差几只数量级。”

科技日报记者发现,2017年结束了了网络上老是热炒“5纳米刻蚀机”,而中微公司一再抗议媒体给当当另一个人“戴高帽”。

“从不老把产业的发展提高到政治角度,更从没有多再或多或少新闻人和媒体搞吸引眼球的不实报导。”尹志尧2018年表示,“对我和益微的夸大宣传搞得当当另一个人儿很被动……过或多或少并且,又改头换面登出来,人太好当当当另一个人儿头痛。”

来源:科技日报